| 专利号： |
201210253921X |
| 申请日： |
2012/7/20 |
| 授权公告日： |
2014/6/11 |
| 专利权人： |
大连理工大学 |
| 发明人： |
董闯；陈宝清；牟宗信；王清；羌建兵；王英敏 |
摘要：
一种钢铁、锌基合金真空离子镀铬工艺代替现行电镀铬工艺，属于材料表面技术领域。其特征是：离子镀铬工艺代替现行电镀装饰铬工艺和离子镀超硬铬代替电镀硬铬。工件与真空室之间，施加有脉冲负变偏压，电压为100-2000V，膜层与工件之间有0.5－4微米（μ）的过渡层提高镀膜附着性，离子镀氮化锆、或氮化铬代替现行电镀装饰铬工艺中电镀镍层；离子镀铬或钴代替电镀装饰铬工艺中电镀铬层；离子镀超硬铬代替电镀硬铬，离子镀金属化合物光亮剂镀膜，如三氧化二鋁或二氧化硅提高离子镀膜光亮性。本发明的效果和益处是：膜层中没有Ｎｉ元素，对人体无害；没有三废排放无须治理；附着性好，致密性好，耐蚀性强，硬度高耐磨性好。
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