| 专利号： |
2012100767118.0 |
| 申请日： |
2012/3/21 |
| 授权公告日： |
2014/6/11 |
| 专利权人： |
大连理工大学 |
| 发明人： |
李扬；张贵锋；赵凡；侯晓多；邓德伟 |
摘要：
一种水热-电化学法制备金刚石膜，属于表面镀膜的技术领域。其特征是选用乙酸为碳源，提供金刚石膜生长需要的甲基。将乙酸稀释在去离子水中，利用去离子水中的氢和氧抑制石墨相的生长。本发明中的实验装置是将用于水热合成的反应釜进行了改进，引入电极。反应过程中溶液处于高温高压的状态，满足金刚石膜生长需要的衬底高温条件，又利用双向脉冲高电压分解乙酸和去离子水，提供金刚石膜生长所需要的甲基，氢和氧的活性粒子。本发明的效果和益处是：相对于传统的气相法而言，液相法容易实现大面积和在复杂工件表面生长金刚石膜，且生长速率快。实验中试剂无毒且价格便宜，无需复杂的真空系统。
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