专利号:  | 
   2009100102682  | 
  
  
   申请日:  | 
   2009/1/20  | 
  
  
   授权公告日:  | 
   2012/1/25  | 
  
  
   专利权人:  | 
   大连理工大学  | 
  
  
   发明人:  | 
   高航;王碧玲;郭东明;康仁科  | 
  
 
 
 
  
摘要:
    本发明公开了一种非水基无磨料化学机械抛光液,适用于软脆易潮解晶体的抛光。其组成成分是:按重量百分比,油相为40~65%,去离子水为10~22%,余量为表面活性剂。油相为醇或酯的一种,表面活性剂可以采用非离子表面活性剂高碳脂肪醇聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚、聚乙二醇辛基苯基醚或聚氧乙烯酰胺的一种。其有益效果是该抛光液配制方法简单,流动性好,无毒、无污染、无腐蚀,稳定性好,不易挥发,使用寿命长。被抛样品表面光洁,粗糙度可达1.7nm,表面无划痕、损伤等缺陷,在室温密闭条件下可以永久保存。