专利号: |
2009100102682 |
申请日: |
2009/1/20 |
授权公告日: |
2012/1/25 |
专利权人: |
大连理工大学 |
发明人: |
高航;王碧玲;郭东明;康仁科 |
摘要:
本发明公开了一种非水基无磨料化学机械抛光液,适用于软脆易潮解晶体的抛光。其组成成分是:按重量百分比,油相为40~65%,去离子水为10~22%,余量为表面活性剂。油相为醇或酯的一种,表面活性剂可以采用非离子表面活性剂高碳脂肪醇聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚、聚乙二醇辛基苯基醚或聚氧乙烯酰胺的一种。其有益效果是该抛光液配制方法简单,流动性好,无毒、无污染、无腐蚀,稳定性好,不易挥发,使用寿命长。被抛样品表面光洁,粗糙度可达1.7nm,表面无划痕、损伤等缺陷,在室温密闭条件下可以永久保存。