专利成果

专利成果

一种冶金法去除工业硅中杂质硼的方法(专利号:201110152162.3)
2015-03-30 16:57  
专利号: 201110152162.3
申请日: 2011/6/8
授权公告日: 2012/12/26
专利权人: 大连理工大学
发明人: 谭毅;李亚琼;李佳艳;武深瑞

摘要
    本发明属于冶金法提纯工业硅的技术领域。一种利用冶金法去除工业硅中杂质硼的方法,先熔化工业硅,向工业硅熔体中添加少量的金属,熔炼后得到改性硅熔体,将改性硅熔体冷却、破碎得到改性硅粉;然后将低硼二氧化硅和改性硅粉均匀混合、酸洗除杂、干燥、预成型,后进行真空熔炼-气相冷凝,得到高纯一氧化硅;最后进行一氧化硅的歧化熔炼,冷却、分离后得到高纯硅和二氧化硅,并将得到的二氧化硅返回利用。该发明方法能有效去除工业硅中的杂质硼,从而满足太阳能电池用硅材料的使用要求,工艺简单,生产周期短,节能降耗,提纯效果好,技术稳定,生产效率高,环保效益高。
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